تحميل...
Formation of nanostructured silicon surfaces by stain etching
In this work, we report the fabrication of ordered silicon structures by chemical etching of silicon in vanadium oxide (V(2)O(5))/hydrofluoric acid (HF) solution. The effects of the different etching parameters including the solution concentration, temperature, and the presence of metal catalyst fil...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Nanoscale Res Lett |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Springer
2014
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4242786/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/25435830 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-9-482 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|