Načítá se...
Silicon Nanostructures Produced by Modified MacEtch Method for Antireflective Si Surface
This work pertains to the method for modification of silicon (Si) wafer morphology by metal-assisted chemical etching (MacEtch) technique suitable for fabrication of antireflective Si surfaces. For this purpose, we made different Au catalyst patterns on the surface of Si substrate. This modification...
Uloženo v:
| Vydáno v: | Nanoscale Res Lett |
|---|---|
| Hlavní autoři: | , , , , |
| Médium: | Artigo |
| Jazyk: | Inglês |
| Vydáno: |
Springer US
2017
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5307424/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28209027 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-017-1886-2 |
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
|