Ładuje się......
Nanofabrication on monocrystalline silicon through friction-induced selective etching of Si(3)N(4) mask
A new fabrication method is proposed to produce nanostructures on monocrystalline silicon based on the friction-induced selective etching of its Si(3)N(4) mask. With low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD) Si(3)N(4) film as etching mask on Si(100) surface, the fabrication can be realized by n...
Zapisane w:
| Główni autorzy: | , , , |
|---|---|
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Springer
2014
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4036082/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/24940174 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-9-241 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|