تحميل...
Nanofabrication on monocrystalline silicon through friction-induced selective etching of Si(3)N(4) mask
A new fabrication method is proposed to produce nanostructures on monocrystalline silicon based on the friction-induced selective etching of its Si(3)N(4) mask. With low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD) Si(3)N(4) film as etching mask on Si(100) surface, the fabrication can be realized by n...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , |
|---|---|
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Springer
2014
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4036082/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/24940174 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-9-241 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|