تحميل...
Crystallization to polycrystalline silicon thin film and simultaneous inactivation of electrical defects by underwater laser annealing
We propose a low-temperature laser annealing method of a underwater laser annealing (WLA) for polycrystalline silicon (poly-Si) films. We performed crystallization to poly-Si films by laser irradiation in flowing deionized-water where KrF excimer laser was used for annealing. We demonstrated that th...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
American Institute of Physics
2012
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3537686/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/23319827 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1063/1.4772513 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|