Đang tải...
High-κ oxide nanoribbons as gate dielectrics for high mobility top-gated graphene transistors
Deposition of high-κ dielectrics onto graphene is of significant challenge due to the difficulties of nucleating high quality oxide on pristine graphene without introducing defects into the monolayer of carbon lattice. Previous efforts to deposit high-κ dielectrics on graphene often resulted in sign...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
National Academy of Sciences
2010
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC2872405/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/20308584 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1073/pnas.0914117107 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|