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Enhancement of Breakdown Voltage in p-GaN Gate AlGaN/GaN HEMTs With a Stepped Hybrid GaN/AlN Buffer Layer

A novel p-GaN gate AlGaN/GaN high electron mobility transistor (HEMT) structure with a stepped hybrid GaN/AlN buffer layer (S-HEMT) is proposed and simulated by the Sentaurus TCAD in this paper. A stepped hybrid GaN/AlN buffer layer is adopted and the step is near the interface of the gate and drain...

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Detalhes bibliográficos
Principais autores: Yuan Wang, Shengdong Hu, Jingwei Guo, Hao Wu, Tao Liu, Jie Jiang
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: IEEE 2022-01-01
coleção:IEEE Journal of the Electron Devices Society
Assuntos:
Acesso em linha:https://ieeexplore.ieee.org/document/9690939/
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