Novel Etch-Resistant Molecular Glass Photoresist Based on Pyrene Derivatives for Electron Beam Lithography

שמור ב:

מידע ביבליוגרפי
Principais autores:	Xue Cong, Siliang Zhang, Jiaxing Gao, Xuewen Cui, Yurui Wu, Xudong Guo, Rui Hu, Shuangqing Wang, Jinping Chen, Yi Li, Guoqiang Yang
פורמט:	Artigo
שפה:	Inglês
יצא לאור:	American Chemical Society 2024-08-01
סדרה:	ACS Omega
גישה מקוונת:	https://doi.org/10.1021/acsomega.4c01044
תגים:	הוספת תג אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!

פריטים דומים