Negative-tone molecular glass photoresist for high-resolution electron beam lithography

A low molecular weight organic compound containing bis-phenol A backbone (BPA-6OH) is reported as a negative-tone photoresist. This material has a high glass transition temperature and excellent thermal stability. A good contrast, well-resolved line pattern around 73.4 nm and sensitivity of 52 µC cm...

Szczegółowa specyfikacja

Opis bibliograficzny

Główni autorzy:	Yafei Wang, Long Chen, Jiating Yu, Xudong Guo, Shuangqing Wang, Guoqiang Yang
Format:	Artigo
Język:	Inglês
Wydane:	The Royal Society 2021-03-01
Seria:	Royal Society Open Science
Hasła przedmiotowe:	photoresist molecular glass photoresist electron beam lithography photolithography negative-tone photoresist
Dostęp online:	https://royalsocietypublishing.org/doi/pdf/10.1098/rsos.202132
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!