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Intense Red Catho- and Photoluminescence from 200 nm Thick Samarium Doped Amorphous AlN Thin Films

<p>Abstract</p> <p>Samarium (Sm) doped aluminum nitride (AlN) thin films are deposited on silicon (100) substrates at 77 K by rf magnetron sputtering method. Thick films of 200 nm are grown at 100&#8211;200 watts RF power and 5&#8211;8 m Torr nitrogen, using a metal target of Al with Sm. X-ray diffr...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliografische Detailangaben
Hauptverfasser: Ali Tariq, Maqbool Muhammad
Format: Artigo
Sprache:Inglês
Veröffentlicht: SpringerOpen 2009-01-01
Schriftenreihe:Nanoscale Research Letters
Schlagworte:
Online-Zugang:http://dx.doi.org/10.1007/s11671-009-9309-7
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