Compensation of systematic errors in thin-film elements using photomask elements
Several methods are considered for compensating for systematic errors in the design parameters of thin-film resistors that determine the yield of functional microassemblies. A method of compensation is proposed by modifying the dimensions of photomask elements according to specific algorithms, which...
Պահպանված է:
| Հիմնական հեղինակ: | |
|---|---|
| Ձևաչափ: | Artigo |
| Լեզու: | Inglês |
| Հրապարակվել է: |
Politekhperiodika
2004-08-01
|
| Շարք: | Технологія та конструювання в електронній апаратурі |
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | https://tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/1135 |
| Ցուցիչներ: |
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|