Compensation of systematic errors in thin-film elements using photomask elements
Several methods are considered for compensating for systematic errors in the design parameters of thin-film resistors that determine the yield of functional microassemblies. A method of compensation is proposed by modifying the dimensions of photomask elements according to specific algorithms, which...
Zapisane w:
| 1. autor: | |
|---|---|
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Politekhperiodika
2004-08-01
|
| Seria: | Технологія та конструювання в електронній апаратурі |
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/1135 |
| Etykiety: |
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|