Compensation of systematic errors in thin-film elements using photomask elements
Several methods are considered for compensating for systematic errors in the design parameters of thin-film resistors that determine the yield of functional microassemblies. A method of compensation is proposed by modifying the dimensions of photomask elements according to specific algorithms, which...
Αποθηκεύτηκε σε:
| Κύριος συγγραφέας: | |
|---|---|
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Inglês |
| Έκδοση: |
Politekhperiodika
2004-08-01
|
| Σειρά: | Технологія та конструювання в електронній апаратурі |
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | https://tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/1135 |
| Ετικέτες: |
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|