تحميل...

Post-deposit annealing of ITO films produced by r.f. magnetron sputtering

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
الحاوية / القاعدة:Superficies y vacío
المؤلفون الرئيسيون: M. Cruz-Jáuregui, J.M. Siqueiros, R. Machorro, S. Wang
التنسيق: Artigo
اللغة:Inglês
منشور في: Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 1997
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94211318010
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!