Characterization of ALN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering

A set of AlN thin-films was prepared by reactive magnetron sputtering at room temperature. The purpose of this work was to study the effect of oxygen impurities on the structural and optical properties of AlN films. The structural and optical properties of the resulting films were characterized usin...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
الحاوية / القاعدة:Revista Mexicana de Física
المؤلفون الرئيسيون: M. García-Méndez, S. Morales-Rodríguez, R. Machorro, W. De La Cruz
التنسيق: Artigo
اللغة:Inglês
منشور في: Sociedad Mexicana de Física A.C. 2008
الموضوعات:
Física, Astronomía y Matemáticas
AlN
thin films
Reactive sputtering
الوصول للمادة أونلاين:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57016047002
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة