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Preparation and optical properties of Ge and C-induced Ge quantum dots on Si

Pure Ge epitaxially grown on Si (100) at high temperatures forms typically 100 nm lateral size islands on top of a 3-4 monolayer thick wetting layer. In stacked layers of Ge dots pronounced vertical alignment is observed if the thickness of the Si spacer layers is smaller than about 50 nm. Pregrowth...

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Superficies y vacío
Main Authors: K. Eberl, O. G. Schmidt, O. Kienzle, F. Ernst
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 1999
Assuntos:
Acesso em linha:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94200902
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