Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes que lo constituyen: etapa de generación de v...
Zapisane w:
| Wydane w: | Ingeniare. Revista Chilena de Ingeniería |
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| Główni autorzy: | , , , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Espanhol |
| Wydane: |
Universidad de Tarapacá
2015
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| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=77233740010 |
| Etykiety: |
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