Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes que lo constituyen: etapa de generación de v...
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| Udgivet i: | Ingeniare. Revista Chilena de Ingeniería |
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| Principais autores: | , , , , , |
| Format: | Artigo |
| Sprog: | Espanhol |
| Udgivet: |
Universidad de Tarapacá
2015
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| Fag: | |
| Online adgang: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=77233740010 |
| Tags: |
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