Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas

El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes que lo constituyen: etapa de generación de v...

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Библиографические подробности

Опубликовано в::	Ingeniare. Revista Chilena de Ingeniería
Главные авторы:	M. Arroyave, J.M. Jaramillo, M. Arenas, C. Saldarriaga, J. Jaramillo, V. Londoño
Формат:	Artigo
Язык:	Espanhol
Опубликовано:	Universidad de Tarapacá 2015
Предметы:	Ingeniería
Online-ссылка:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=77233740010
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