Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes que lo constituyen: etapa de generación de v...
-д хадгалсан:
| -д хэвлэсэн: | Ingeniare. Revista Chilena de Ingeniería |
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| Үндсэн зохиолчид: | , , , , , |
| Формат: | Artigo |
| Хэл сонгох: | Espanhol |
| Хэвлэсэн: |
Universidad de Tarapacá
2015
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| Нөхцлүүд: | |
| Онлайн хандалт: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=77233740010 |
| Шошгууд: |
Шошго байхгүй, Энэхүү баримтыг шошголох эхний хүн болох!
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