Numerical Simulation of HFCVD Process Used for Diamond Growth
Hot-filament chemical vapour deposition (HFCVD) is a common method employed for diamond deposition.Typically in this method a dilute mixture of carbon containing gas such as methane in hydrogen is thermallyactivated at sub atmospheric pressures by a hot filament. Due to the filament-substrate proxim...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | Brazilian Journal of Physics |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
Sociedade Brasileira de Física
2006
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46436321 |
| Các nhãn: |
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|