Ładuje się......

Optimizing the plasma oxidation of aluminum gate electrodes for ultrathin gate oxides in organic transistors

A critical requirement for the application of organic thin-film transistors (TFTs) in mobile or wearable applications is low-voltage operation, which can be achieved by employing ultrathin, high-capacitance gate dielectrics. One option is a hybrid dielectric composed of a thin film of aluminum oxide...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Wydane w:Sci Rep
Główni autorzy: Geiger, Michael, Hagel, Marion, Reindl, Thomas, Weis, Jürgen, Weitz, R. Thomas, Solodenko, Helena, Schmitz, Guido, Zschieschang, Ute, Klauk, Hagen, Acharya, Rachana
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: Nature Publishing Group UK 2021
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7973517/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/33737629
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/s41598-021-85517-7
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!