Atomic Layer Deposition of Cobalt Phosphide for Efficient Water Splitting

Transition‐metal phosphides (TMP) prepared by atomic layer deposition (ALD) are reported for the first time. Ultrathin Co‐P films were deposited by using PH(3) plasma as the phosphorus source and an extra H(2) plasma step to remove excess P in the growing films. The optimized ALD process proceeded b...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Angew Chem Int Ed Engl
Hauptverfasser: Zhang, Haojie, Hagen, Dirk J., Li, Xiaopeng, Graff, Andreas, Heyroth, Frank, Fuhrmann, Bodo, Kostanovskiy, Ilya, Schweizer, Stefan L., Caddeo, Francesco, Maijenburg, A. Wouter, Parkin, Stuart, Wehrspohn, Ralf B.
Format: Artigo
Sprache:Inglês
Veröffentlicht: John Wiley and Sons Inc. 2020
Schlagworte:
Communications
Online Zugang:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7540345/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32608102
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1002/anie.202002280
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