Đang tải...

Influence of Illumination on Porous Silicon Formed by Photo-Assisted Etching of p-Type Si with a Different Doping Level

The influence of illumination intensity and p-type silicon doping level on the dissolution rate of Si and total current by photo-assisted etching was studied. The impact of etching duration, illumination intensity, and wafer doping level on the etching process was investigated using scanning electro...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Xuất bản năm:Micromachines (Basel)
Những tác giả chính: Volovlikova, Olga, Gavrilov, Sergey, Lazarenko, Petr
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: MDPI 2020
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7074670/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32075147
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/mi11020199
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!