Ładuje się......

Study of Edge and Screw Dislocation Density in GaN/Al(2)O(3) Heterostructure

This study assesses the characteristics (edge and screw dislocation density) of a commercially available GaN/AlN/Al(2)O(3) wafer. The heterostructure was evaluated by means of high-resolution X-ray diffraction (HR-XRD), high-resolution transmission electron microscopy (HR-TEM), and Doppler-Broadenin...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Wydane w:Materials (Basel)
Główni autorzy: Ene, Vladimir Lucian, Dinescu, Doru, Zai, Iulia, Djourelov, Nikolay, Vasile, Bogdan Stefan, Serban, Andreea Bianca, Leca, Victor, Andronescu, Ecaterina
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: MDPI 2019
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6947610/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31847334
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/ma12244205
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!