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Probing the Field-Effect Transistor with Monolayer MoS(2) Prepared by APCVD

The two-dimensional materials can be used as the channel material of transistor, which can further decrease the size of transistor. In this paper, the molybdenum disulfide (MoS(2)) is grown on the SiO(2)/Si substrate by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD), and the MoS(2) is system...

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Nanomaterials (Basel)
Main Authors: Han, Tao, Liu, Hongxia, Wang, Shulong, Chen, Shupeng, Xie, Haiwu, Yang, Kun
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: MDPI 2019
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6780524/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31462000
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/nano9091209
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