লোডিং...
Uniform Vapor-Pressure-Based Chemical Vapor Deposition Growth of MoS(2) Using MoO(3) Thin Film as a Precursor for Coevaporation
[Image: see text] Chemical vapor deposition (CVD) is a powerful method employed for high-quality monolayer crystal growth of 2D transition metal dichalcogenides with much effort invested toward improving the growth process. Here, we report a novel method for CVD-based growth of monolayer molybdenum...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রকাশিত: | ACS Omega |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | , , , , , |
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
American Chemical Society
2018
|
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6643554/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31458458 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acsomega.8b02978 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|