Đang tải...
Nonlinear Etch Rate of Au-Assisted Chemical Etching of Silicon
[Image: see text] We demonstrated time-dependent mass transport mechanisms of Au-assisted chemical etching of Si substrates. Variations in the etch rate and surface topology were correlated with catalyst features and etching duration. Nonlinear etching characteristics were associated with the format...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | ACS Omega |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
American Chemical Society
2017
|
| Truy cập trực tuyến: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6641051/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31457564 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acsomega.7b00232 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|