Đang tải...

Nonlinear Etch Rate of Au-Assisted Chemical Etching of Silicon

[Image: see text] We demonstrated time-dependent mass transport mechanisms of Au-assisted chemical etching of Si substrates. Variations in the etch rate and surface topology were correlated with catalyst features and etching duration. Nonlinear etching characteristics were associated with the format...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Xuất bản năm:ACS Omega
Những tác giả chính: Choi, Keorock, Song, Yunwon, Ki, Bugeun, Oh, Jungwoo
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: American Chemical Society 2017
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6641051/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31457564
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acsomega.7b00232
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!