Ładuje się......
Insights into the Role of Plasma in Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Titanium Dioxide Thin Films
In this work, the effect of plasma on the chemistry and morphology of coatings deposited by Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (AP-PECVD) is investigated. To do so, plasma deposited amorphous titanium dioxide (TiO(2)) thin films are compared to thin films deposited using...
Zapisane w:
| Wydane w: | Sci Rep |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Nature Publishing Group UK
2018
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6232178/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/30420716 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/s41598-018-35154-4 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|