تحميل...
Insights into the Role of Plasma in Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Titanium Dioxide Thin Films
In this work, the effect of plasma on the chemistry and morphology of coatings deposited by Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (AP-PECVD) is investigated. To do so, plasma deposited amorphous titanium dioxide (TiO(2)) thin films are compared to thin films deposited using...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Sci Rep |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Nature Publishing Group UK
2018
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6232178/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/30420716 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/s41598-018-35154-4 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|