লোডিং...
Resist Filling Study for UV Nanoimprint Lithography Using Stamps with Various Micro/Nano Ratios
Mixed micro- and nanoscale structures are gaining popularity in various fields due to their rapid advances in patterning. An investigation in stamp resist filling with multiscale cavities via ultraviolet (UV) nanoimprint lithography (UV-NIL) is necessary to improve stamp design. Here, simulations at...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রকাশিত: | Micromachines (Basel) |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | , , |
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
MDPI
2018
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6082289/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/30424268 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/mi9070335 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|