Đang tải...
Effect of annealing treatments on CeO(2) grown on TiN and Si substrates by atomic layer deposition
In this work, we investigate the effect of thermal treatment on CeO(2) films fabricated by using atomic layer deposition (ALD) on titanium nitride (TiN) or on silicon (Si) substrates. In particular, we report on the structural, chemical and morphological properties of 25 nm thick ceria oxide with pa...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | Beilstein J Nanotechnol |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
Beilstein-Institut
2018
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5870165/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29600150 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3762/bjnano.9.83 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|