Đang tải...
Advanced Silicon-on-Insulator: Crystalline Silicon on Atomic Layer Deposited Beryllium Oxide
Silicon-on-insulator (SOI) technology improves the performance of devices by reducing parasitic capacitance. Devices based on SOI or silicon-on-sapphire technology are primarily used in high-performance radio frequency (RF) and radiation sensitive applications as well as for reducing the short chann...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | Sci Rep |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , , , , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
Nature Publishing Group UK
2017
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5643296/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29038543 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/s41598-017-13693-6 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|