Đang tải...

Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin Films: A Review of Recent Progress, Challenges, and Outlooks

With the continued miniaturization of devices in the semiconductor industry, atomic layer deposition (ALD) of silicon nitride thin films (SiNx) has attracted great interest due to the inherent benefits of this process compared to other silicon nitride thin film deposition techniques. These benefits...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Xin Meng, Young-Chul Byun, Harrison S. Kim, Joy S. Lee, Antonio T. Lucero, Lanxia Cheng, Jiyoung Kim
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: MDPI AG 2016-12-01
Loạt:Materials
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:http://www.mdpi.com/1996-1944/9/12/1007
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!