Yüklüyor......

Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin Films: A Review of Recent Progress, Challenges, and Outlooks

With the continued miniaturization of devices in the semiconductor industry, atomic layer deposition (ALD) of silicon nitride thin films (SiNx) has attracted great interest due to the inherent benefits of this process compared to other silicon nitride thin film deposition techniques. These benefits...

Ful tanımlama

Kaydedildi:
Detaylı Bibliyografya
Asıl Yazarlar: Xin Meng, Young-Chul Byun, Harrison S. Kim, Joy S. Lee, Antonio T. Lucero, Lanxia Cheng, Jiyoung Kim
Materyal Türü: Artigo
Dil:Inglês
Baskı/Yayın Bilgisi: MDPI AG 2016-12-01
Seri Bilgileri:Materials
Konular:
Online Erişim:http://www.mdpi.com/1996-1944/9/12/1007
Etiketler: Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!