Đang tải...
Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin Films: A Review of Recent Progress, Challenges, and Outlooks
With the continued miniaturization of devices in the semiconductor industry, atomic layer deposition (ALD) of silicon nitride thin films (SiNx) has attracted great interest due to the inherent benefits of this process compared to other silicon nitride thin film deposition techniques. These benefits...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
MDPI AG
2016-12-01
|
| Loạt: | Materials |
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | http://www.mdpi.com/1996-1944/9/12/1007 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|