Đang tải...
Intercalation of Si between MoS(2) layers
We report a combined experimental and theoretical study of the growth of sub-monolayer amounts of silicon (Si) on molybdenum disulfide (MoS(2)). At room temperature and low deposition rates we have found compelling evidence that the deposited Si atoms intercalate between the MoS(2) layers. Our evide...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | Beilstein J Nanotechnol |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , , , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
Beilstein-Institut
2017
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5629401/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29046843 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3762/bjnano.8.196 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|