تحميل...
High-speed maskless nanolithography with visible light based on photothermal localization
High-speed maskless nanolithography is experimentally achieved on AgInSbTe thin films. The lithography was carried out in air at room temperature, with a GaN diode laser (λ = 405 nm), and on a large sample disk of diameter 120 mm. The normal width of the written features measures 46 ± 5 nm, about 1/...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Sci Rep |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Nature Publishing Group
2017
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5333155/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28252011 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep43892 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|