Retraction: Integrating Epitaxial-Like Pb(Zr,Ti)O(3) Thin-Film into Silicon for Next-Generation Ferroelectric Field-Effect Transistor

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Sci Rep
Main Authors: Park, Jae Hyo, Kim, Hyung Yoon, Jang, Gil Su, Seok, Ki Hwan, Chae, Hee Jae, Lee, Sol Kyu, Kiaee, Zohreh, Joo, Seung Ki
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Nature Publishing Group 2016
Assuntos:
Retraction
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5009879/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27589371
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep31300
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