Ładuje się......
Novel Self-shrinking Mask for Sub-3 nm Pattern Fabrication
It is very difficult to realize sub-3 nm patterns using conventional lithography for next-generation high-performance nanosensing, photonic, and computing devices. Here we propose a completely original and novel concept, termed self-shrinking dielectric mask (SDM), to fabricate sub-3 nm patterns. In...
Zapisane w:
| Wydane w: | Sci Rep |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Nature Publishing Group
2016
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4940743/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27404325 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep29625 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|