Đang tải...
Deposition of Diamond Films in a Closed Hot Filament CVD System
A closed system hot filament chemical vapor deposition (CVD) reactor has been used to deposit diamond films on silicon substrates. A fixed charge of hydrogen gas is fed into the deposition system until the desired deposition pressure level is reached. A solid graphite cylindrical rod held above the...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | J Res Natl Inst Stand Technol |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
[Gaithersburg, MD] : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology
1995
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4887217/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29151726 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.6028/jres.100.004 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|