Lithography-free fabrication of silicon nanowire and nanohole arrays by metal-assisted chemical etching

We demonstrated a novel, simple, and low-cost method to fabricate silicon nanowire (SiNW) arrays and silicon nanohole (SiNH) arrays based on thin silver (Ag) film dewetting process combined with metal-assisted chemical etching. Ag mesh with holes and semispherical Ag nanoparticles can be prepared by...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Liu, Ruiyuan, Zhang, Fute, Con, Celal, Cui, Bo, Sun, Baoquan
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: Springer 2013
Những chủ đề:
Nano Express
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3645966/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/23557325
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-8-155
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!

Những quyển sách tương tự