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Sub-100 nm Patterning of Supported Bilayers by Nanoshaving Lithography
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| Main Authors: | , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
2008
|
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3475159/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/18257567 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/ja077730s |
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