تحميل...

Hybrid FIB milling strategy for the fabrication of plasmonic nanostructures on semiconductor substrates

The optical properties of plasmonic semiconductor devices fabricated by focused ion beam (FIB) milling deteriorate because of the amorphisation of the semiconductor substrate. This study explores the effects of combining traditional 30 kV FIB milling with 5 kV FIB patterning to minimise the semicond...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Einsle, Joshua F, Bouillard, Jean-Sebastien, Dickson, Wayne, Zayats, Anatoly V
التنسيق: Artigo
اللغة:Inglês
منشور في: Springer 2011
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3234295/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/22040004
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-6-572
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!