تحميل...
Freestanding HfO(2 )grating fabricated by fast atom beam etching
We report here the fabrication of freestanding HfO(2 )grating by combining fast atom beam etching (FAB) of HfO(2 )film with dry etching of silicon substrate. HfO(2 )film is deposited onto silicon substrate by electron beam evaporator. The grating patterns are then defined by electron beam lithograph...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , |
|---|---|
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Springer
2011
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3211457/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/21711898 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-6-367 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|