Ładuje się......

Freestanding HfO(2 )grating fabricated by fast atom beam etching

We report here the fabrication of freestanding HfO(2 )grating by combining fast atom beam etching (FAB) of HfO(2 )film with dry etching of silicon substrate. HfO(2 )film is deposited onto silicon substrate by electron beam evaporator. The grating patterns are then defined by electron beam lithograph...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Wang, Yongjin, Wu, Tong, Kanamori, Yoshiaki, Hane, Kazuhiro
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: Springer 2011
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3211457/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/21711898
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-6-367
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!