Ładuje się......
Freestanding HfO(2 )grating fabricated by fast atom beam etching
We report here the fabrication of freestanding HfO(2 )grating by combining fast atom beam etching (FAB) of HfO(2 )film with dry etching of silicon substrate. HfO(2 )film is deposited onto silicon substrate by electron beam evaporator. The grating patterns are then defined by electron beam lithograph...
Zapisane w:
| Główni autorzy: | , , , |
|---|---|
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Springer
2011
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3211457/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/21711898 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-6-367 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|