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Analysis of thickness-dependent optical parameters of a-Si:H/nc-Si:H multilayer thin films
Abstract Multilayer thin films with alternate hydrogenated amorphous (a-Si:H) and nanocrystalline silicon (nc-Si:H) layers are deposited in hot wire chemical vapor deposition (HWCVD) chamber using hydrogen (H2) dilution of silane (SiH4). Two sets (two samples for each set) have different nc-Si:H lay...
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Main Authors: | , |
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Formato: | Artigo |
Idioma: | Inglês |
Publicado em: |
SpringerOpen
2017-10-01
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Colecção: | Materials for Renewable and Sustainable Energy |
Assuntos: | |
Acesso em linha: | http://link.springer.com/article/10.1007/s40243-017-0107-3 |
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