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Analysis of thickness-dependent optical parameters of a-Si:H/nc-Si:H multilayer thin films

Abstract Multilayer thin films with alternate hydrogenated amorphous (a-Si:H) and nanocrystalline silicon (nc-Si:H) layers are deposited in hot wire chemical vapor deposition (HWCVD) chamber using hydrogen (H2) dilution of silane (SiH4). Two sets (two samples for each set) have different nc-Si:H lay...

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Detalhes bibliográficos
Main Authors: Ashok Kherodia, Ashish K. Panchal
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: SpringerOpen 2017-10-01
Colecção:Materials for Renewable and Sustainable Energy
Assuntos:
Acesso em linha:http://link.springer.com/article/10.1007/s40243-017-0107-3
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