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Mesostructured HfO2/Al2O3 Composite Thin Films with Reduced Leakage Current for Ion-Conducting Devices
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| Main Authors: | , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
American Chemical Society
2019-08-01
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| Colecção: | ACS Omega |
| Acesso em linha: | http://dx.doi.org/10.1021/acsomega.9b01095 |
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