Ładuje się......
Intense Red Catho- and Photoluminescence from 200 nm Thick Samarium Doped Amorphous AlN Thin Films
<p>Abstract</p> <p>Samarium (Sm) doped aluminum nitride (AlN) thin films are deposited on silicon (100) substrates at 77 K by rf magnetron sputtering method. Thick films of 200 nm are grown at 100–200 watts RF power and 5–8 m Torr nitrogen, using a metal target...
Zapisane w:
| Główni autorzy: | , |
|---|---|
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
SpringerOpen
2009-01-01
|
| Seria: | Nanoscale Research Letters |
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | http://dx.doi.org/10.1007/s11671-009-9309-7 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|