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Atomic‐Scale Epitaxy for Tailoring Crystalline GeSbTe Alloys Into Bidimensional Phases

ABSTRACT In this study, we establish an accurate growth diagram—describing the phase, composition, and atomic stacking of Ge‐Sb‐Te alloys (GST)—that can be used as a prediction tool for thin film deposition. This framework for epitaxy at the atomic scale allows for designing tailored crystalline GST...

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Autori principali: Valeria Bragaglia, Fabrizio Arciprete, Simone Prili, Yukihiko Takagaki, Antonio Massimiliano Mio, Riccardo Mazzarello, Jos Emiel Boschker, Raffaella Calarco
Natura: Artigo
Lingua:Inglês
Pubblicazione: Wiley-VCH 2026-01-01
Serie:Advanced Materials Interfaces
Soggetti:
Accesso online:https://doi.org/10.1002/admi.202500937
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