Effects of Carbon Incorporation on Electrical Characteristics and Thermal Stability of Ti/TiO₂/<italic>n</italic>-Ge MIS Contact

The effects of carbon incorporation on the thermal stability of the interfacial TiO₂ layer and the electrical characteristics of Ti/TiO₂/ <italic>n-</italic>Ge contacts were investigated. The improved thermal stability and contact characteristics of Ti/TiO₂/ <italic>...

Szczegółowa specyfikacja

Opis bibliograficzny

Główni autorzy:	Iksoo Park, Seonghwan Shin, Jungsik Kim, Bo Jin, Jeong-Soo Lee
Format:	Artigo
Język:	Inglês
Wydane:	IEEE 2022-01-01
Seria:	IEEE Access
Hasła przedmiotowe:	Germanium metal–insulator–semiconductor thermal stability Schottky barrier height Fermi-level pinning contact resistivity
Dostęp online:	https://ieeexplore.ieee.org/document/9853537/
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!