Dielectric tunability of HfAlOx thin films for reconfigurable filter applications
HfO2-based ferroelectrics have received more and more attention recently due to their full compatibility with complementary metal oxide semiconductor technology and excellent scalability toward advanced technology nodes. However, most of the studies are focused on optimizing the ferroelectric proper...
சேமிக்கப்பட்டது:
| முதன்மை ஆசிரியர்கள்: | , , , , , , |
|---|---|
| வடிவம்: | Artigo |
| மொழி: | Inglês |
| வெளியிடப்பட்டது: |
World Scientific Publishing
2026-02-01
|
| தொடர்: | Journal of Advanced Dielectrics |
| பொருள்கள்: | |
| ஆன்லைன் அணுகல்: | https://www.worldscientific.com/doi/10.1142/S2010135X25500286 |
| குறிச்சொற்கள்: |
டாக்ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!
|