কিউআর কোড

Dielectric tunability of HfAlOx thin films for reconfigurable filter applications

HfO2-based ferroelectrics have received more and more attention recently due to their full compatibility with complementary metal oxide semiconductor technology and excellent scalability toward advanced technology nodes. However, most of the studies are focused on optimizing the ferroelectric proper...

সম্পূর্ণ বিবরণ

সংরক্ষণ করুন:
গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
প্রধান লেখক: Ziyu Wang, Zhihua Zhao, Fei Yan, Xuanling Liu, Jiajia Liao, Maliang Liu, Yichun Zhou
বিন্যাস: Artigo
ভাষা:Inglês
প্রকাশিত: World Scientific Publishing 2026-02-01
মালা:Journal of Advanced Dielectrics
বিষয়গুলি:
অনলাইন ব্যবহার করুন:https://www.worldscientific.com/doi/10.1142/S2010135X25500286
ট্যাগগুলো: ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!