QR kód

Study on the Electro-Fenton Chemomechanical Removal Behavior in Single-Crystal GaN Pin–Disk Friction Wear Experiments

Electro-Fenton chemical mechanical polishing primarily regulates the generation of hydroxyl radicals (·OH) via the Fenton reaction through an applied electric field, which subsequently influences the formation and removal of the oxide layer on the workpiece surface, thereby impacting the overall pol...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autoři: Yangting Ou, Zhuoshan Shen, Juze Xie, Jisheng Pan
Médium: Artigo
Jazyk:Inglês
Vydáno: MDPI AG 2025-02-01
Edice:Micromachines
Témata:
On-line přístup:https://www.mdpi.com/2072-666X/16/2/210
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!